新萊潔凈應用材料股份有限公司產品總監范志旻师长在中國材料大會 2021 廈門期間針對超高純材料在半 導體制程上的應用提出專場技術報告ⓚⓛⓜⓝⓞⓟⓠⓡⓢ,會中重點介紹有幾大部门:
一ⓣⓤⓥⓦⓧⓨⓩ、 前制程中沉積「Deposition」及刻蝕「Etching」工藝♀☿☼☀☁☂☄,邏輯 IC웃유ღ♋♂、動態隨機存取存儲器 「Dynamic Random Access Memory⓱⓲⓳⓴⓵⓶⓷⓸⓹⓺⓻⓼⓽⓾,DRAM」♀☿☼☀☁☂☄、3D NAND 閃存「NAND flash memory」工藝介紹⓱⓲⓳⓴⓵⓶⓷⓸⓹⓺⓻⓼⓽⓾。
二☈⊙☉℃℉❅、 電子特氣「ESG「Electronic Speciality Gas」在薄膜制程上的應用⒜⒝⒞⒟⒠⒡⒢⒣⒤。
三⒔⒕⒖⒗⒘⒙⒚⒛ⅠⅡⅢⅣⅤⅥⅦⅧⅨⅩⅪⅫⅰⅱ、 前驅體在化學氣沉積「CVD」 ⒜⒝⒞⒟⒠⒡⒢⒣⒤、原子層沉積「ALD」⒥⒦⒧⒨⒩⒪⒫⒬⒭⒮⒯⒰⒱⒲⒳⒴⒵❆❇❈❉❊†☨✞✝☥☦☓☩☯。
四❣❦❧♡۵、 ESG 在光刻技術上的應用ⓊⓋⓌⓍⓎⓏⓐⓑⓒⓓⓔⓕⓖⓗⓘⓙ。
五⒜⒝⒞⒟⒠⒡⒢⒣⒤、 ESG 在等離子刻蝕與原子層刻蝕「ALE」的應用以支撐 5nm 以下節點技術ⓊⓋⓌⓍⓎⓏⓐⓑⓒⓓⓔⓕⓖⓗⓘⓙ。
六ⓣⓤⓥⓦⓧⓨⓩ、 ESG 在離子注入的應用⒥⒦⒧⒨⒩⒪⒫⒬⒭⒮⒯⒰⒱⒲⒳⒴⒵❆❇❈❉❊†☨✞✝☥☦☓☩☯。
七①②③④⑤⑥⑦⑧⑨⑩⑪⑫⑬⑭⑮⑯、 超高純 UHP「Ultra High Purity」及高純「High Purity」质料針對分别 ESG 的選型建議✤✥❋✦✧✩✰✪✫✬✭✮✯❂✡★✱✲✳✴。
八⒥⒦⒧⒨⒩⒪⒫⒬⒭⒮⒯⒰⒱⒲⒳⒴⒵❆❇❈❉❊†☨✞✝☥☦☓☩☯、 UHP 原料外观處理工藝探討怎么對應腐蝕性 ESG 應用ⓣⓤⓥⓦⓧⓨⓩ。
九ⓚⓛⓜⓝⓞⓟⓠⓡⓢ、 新莱有限公司 AdvanTorr 真空品牌的產品介紹㈠㈡㈢㈣㈤㈥㈦。
十✤✥❋✦✧✩✰✪✫✬✭✮✯❂✡★✱✲✳✴、 新莱有限公司 NanoPure 品牌 UHP 系列產品介紹ⒺⒻⒼⒽⒾⒿⓀⓁⓂⓃⓄⓅⓆⓇⓈⓉ。
十一❋❀⚘☑✓✔√☐☒✗✘ㄨ✕✖✖⋆✢✣、 新莱有限公司 NanoPure 品牌非 UHP 系列產品介紹㈠㈡㈢㈣㈤㈥㈦。
十二㈠㈡㈢㈣㈤㈥㈦、 成功案例應用介紹ⓊⓋⓌⓍⓎⓏⓐⓑⓒⓓⓔⓕⓖⓗⓘⓙ。
十三☾☽❄☃、 新莱有限公司整體介紹與總結♦☜☞☝✍☚☛☟✌✽✾✿❁❃。
新莱有限公司結合 AdvanTorr 真空品牌與 NanoPure 品牌 UHP 氣體品牌①②③④⑤⑥⑦⑧⑨⑩⑪⑫⑬⑭⑮⑯,多年來為設備商⑰⑱⑲⑳⓪⓿❶❷❸❹❺、晶 圓 FAB 廠及泛產業提供應用质料選型與應用的保护☈⊙☉℃℉❅,2021 年并參與上海實驗室裝備協會 P 類實驗室供氣系統的團體標準制訂✵✶✷✸✹✺✻✼❄❅,彌補國內 UHP 超高純應用质料品牌的空缺☈⊙☉℃℉❅,從代工⓱⓲⓳⓴⓵⓶⓷⓸⓹⓺⓻⓼⓽⓾、產品ⓣⓤⓥⓦⓧⓨⓩ、 品牌到標準實現技術精進㈧㈨㈩⑴⑵⑶⑷⑸⑹⑺⑻⑼⑽⑾⑿⒀⒁⒂,為高端裝備國產化的進程做貢獻
掃描下方圖片二維碼⒜⒝⒞⒟⒠⒡⒢⒣⒤,觀看詳細解讀